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史密斯威森M69左輪手槍 维基百科,自由的百科全书: Revision history

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8 November 2025

  • curprev 21:4321:43, 8 November 2025 GabrielleHearn8 talk contribs 2,014 bytes +2,014 Created page with "<br><br><br>燈加熱快速熱退火RTA和快速熱處理RTP設備使用燈加熱,以便快速升溫和降溫半導體晶圓。 因此,該設備主要用於需要將基板在短時間內升溫到特定溫度的應用。 高升溫速率使整個工藝時間短,保持晶圓的熱預算(即晶圓暴露於高溫的總時間)較低。 由於加熱器的設計,這些RTA和RTP工具主要用於單晶圓處理。 這與其他批次熱處理過程(使用垂直爐和..."